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Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials. Application to new-generation photovoltaic devices and transparent conductive materials - 25/11/17

Dépôt spatial par couche atomique : un outil émergeant pour les matériaux pour l'énergie. Application aux composants photovoltaïques de nouvelle génération et aux matériaux transparents et conducteurs

Doi : 10.1016/j.crhy.2017.09.004 
David Muñoz-Rojas , Viet Huong Nguyen, César Masse de la Huerta, Sara Aghazadehchors, Carmen Jiménez, Daniel Bellet
 Laboratoire des matériaux et du génie physique (LMGP), UMR 5628 CNRS – Grenoble INP Minatec, 3, parvis Louis-Néel, MINATEC CS 50257, 38016 Grenoble cedex 1, France 

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Abstract

Materials properties are the keystone of functional devices for energy including energy conversion, harvesting or storage. But to market new energy materials, the development of suitable processing methods allowing affordable prices is needed. Recently, a new approach to atomic layer deposition (ALD) has gained much momentum. This alternative approach is based on separating the precursors in space rather than in time, and has therefore been called Spatial ALD (SALD). With SALD, the purge steps typical of ALD are not needed and thus deposition rates a hundred times faster are achievable. Additionally, SALD can be easily performed at ambient atmosphere, thus it is easier and cheaper to scale up than conventional ALD. This opens the door to widespread industrial application of ALD for the deposition of energy materials for applications including solar energy, energy storage, or smart windows. SALD is presented here and examples of application to photovoltaics and transparent conductive materials are given. We show that SALD is capable of producing high-quality films fully suited for device integration.

Le texte complet de cet article est disponible en PDF.

Résumé

Les propriétés des matériaux constituent la pierre angulaire des dispositifs fonctionnels pour l'énergie, et cela concerne aussi bien la conversion, la récupération ou le stockage d'énergie. De façon à concevoir et fabriquer des nouveaux matériaux pour l'énergie à l'échelle industrielle, il est nécessaire de développer des méthodes de dépôt appropriées et accessibles à des prix abordables. Au cours des dernières années, une nouvelle approche du dépôt par couche atomique (ALD) a suscité un intérêt croissant. Cette approche repose sur la séparation des précurseurs dans l'espace plutôt que dans le temps lors du dépôt par couches atomiques, et a donc été appelée Spatial ALD (SALD). La méthode SALD permet d'éviter les étapes de purge typiques de l'ALD, et, par conséquent, les taux de dépôt de couches sont bien plus rapides, jusqu'à deux ordres de grandeur. De plus, le dépôt par SALD peut être facilement effectué à l'atmosphère ambiante. La mise en œuvre du SALD est donc plus facile et moins coûteuse que celle de l'ALD conventionnelle, ouvrant ainsi la possibilité de son application industrielle au dépôt de matériaux pour l'énergie, et notamment à des domaines tels que l'énergie solaire, le stockage énergétique ou les fenêtres intelligentes. Nous présentons ici la description de la méthode de dépôt SALD et l'illustrons avec des exemples appliqués au photovoltaïque et aux matériaux conducteurs transparents. Nous montrons notamment que la SALD est capable de produire des couches minces de la même qualité que par ALD classique, et qu'elle est donc parfaitement adaptée pour une intégration à l'échelle industrielle.

Le texte complet de cet article est disponible en PDF.

Keywords : Spatial Atomic Layer Deposition, Thin films, Transparent conductive materials, Conformal coating, Energy applications

Mots-clés : Dépôt par couche atomique spatial, Couches minces, Matériau transparent conducteur, Dépôt conforme, Applications à l'énergie


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Vol 18 - N° 7-8

P. 391-400 - septembre 2017 Retour au numéro
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