Planar silica device technology provides the ability to filter, route, switch, and attenuate optical signals for Wavelength Division Multiplexing (WDM) based photonic networks. As network capacity expands there is a requirement to increase the complexity, scale and density of the functions whilst reducing cost. It is also important that both the optical performance and long term stability of the devices are not compromised. The following paper reviews recent progress on these types of devices for large-scale manufacture, concentrating on key performance parameters for filter type structures and hybrid integrated devices such as insertion loss and polarisation dependent loss (PDL). To cite this article: J.R. Bonar et al., C. R. Physique 4 (2003).

La technologie d'intégration planaire de composants à base silice permet le filtrage, le routage et la commutation. Elle rend également possible l'atténuation de signaux optiques pour les applications de réseaux photoniques multiplexés en longueur d'onde (WDM). Au fur et à mesure de l'expansion de la capacité de réseau, il faut augmenter la complexité, l'échelle et la densité de ces fonctions tout en réduisant le coût associé. Il est également important de ne pas compromettre les performances optiques et la stabilité à long terme de ces composants. Nous passons en revue les progrès récemment effectués dans ce domaine sur le plan de la fabrication à grande échelle, nous concentrant particulièrement sur les paramètres-clé que représentent les pertes d'insertion et les pertes dûes à la polarisation (PDL) pour les composants de filtrage et d'intégration hybride. Pour citer cet article : J.R. Bonar et al., C. R. Physique 4 (2003).