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Thin films of mesoporous silica: characterization and applications - 01/01/05

Doi : 10.1016/j.crci.2005.01.004 
Kuei-jung Chao , Pang-hung Liu , Kuo-ying Huang
Department of Chemistry, National Tsinghua University, Hsinchu 300, Taiwan, ROC 

*Corresponding author.

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Abstract

Characterization of mesoporous thin films and its implication in applications are presented in this report. It was found that optical, electrical and mechanical properties of mesoporous thin films prepared through surfactant templating are dependent on the film thickness, porosity, pore size and pore structure. A good understanding of the film properties thus becomes crucial to have a good handle on the electronic and optical applications of these materials. To cite this article: K.J. Chao et al., C. R. Chimie 8 (2005).

Le texte complet de cet article est disponible en PDF.

Résumé

Les caractéristiques de films minces de silice mésoporeuse et leurs conséquences au niveau des applications sont présentées dans cet article. On montre que les propriétés optiques, électriques et mécaniques de films minces mésoporeux préparés en présence d'espèces structurantes tensioactives dépendent de l'épaisseur du film, de sa porosité, de la taille des pores et de la structure poreuse. Une bonne compréhension des propriétés du film devient alors cruciale pour une bonne maîtrise des applications électriques et optiques de ces matériaux. Pour citer cet article : K.J. Chao et al., C. R. Chimie 8 (2005).

Le texte complet de cet article est disponible en PDF.

Keywords : Mesoporous film, Silica, XRR, GIXD, Low-k, Photoluminescence

Mots clés : Films mésoporeux, Silice, XRR, GIXD, Faible k, Photoluminescence


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Vol 8 - N° 3-4

P. 727-739 - mars-avril 2005 Retour au numéro
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  • Highly ordered mesoporous CMI-n materials and hierarchically structured meso-macroporous compositions
  • Bao-Lian Su, Alexandre Léonard, Zhong-Yong Yuan
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  • Toward dual function patterning onto surface of as-made mesostructured silica
  • Sébastien Abry, Belén Albela, Laurent Bonneviot

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