An introduction to ultimate lithography - 14/02/08
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Abstract |
Lithography has been the key enabler for scaling feature sizes of integrated circuits, allowing the exponential growth of the semiconductor industry. This article will briefly describe the major challenges of this technology in microelectronics and introduce the review articles presented in this special issue. To cite this article: M. Brillouët, C. R. Physique 7 (2006).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Résumé |
La lithographie a été le facteur clé pour réduire les tailles de motifs des circuits intégrés, ce qui a permis une croissance exponentielle de lʼindustrie du semiconducteur. Cet article décrira brièvement les enjeux majeurs de cette technologie en microélectronique et introduira les revues présentées dans ce dossier. Pour citer cet article : M. Brillouët, C. R. Physique 7 (2006).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Plan
Vol 7 - N° 8
P. 837-840 - octobre 2006 Retour au numéro
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