We study the role of surface diffusion in the fabrication of nanostructures by laser-focused (“cold”) atom lithography, using kinetic Monte Carlo simulations of a growth model that accounts for spontaneous organisation of 3D islands. Contrary to intuition, we find that the lateral size of the nanostructures is barely affected by surface diffusion of deposited adatoms, even when the adatom diffusion length exceeds the standing-wave field wavelength. To cite this article: F. Nita, A. Pimpinelli, C. R. Physique 5 (2004).

Le rôle de la diffusion de surface dans la fabrication de nanostructures par lithographie d'atomes focalisés par laser (atomes « froids »), est étudiée en utilisant des simulations Monte Carlo cinétiques d'un modèle de croissance qui tient compte de la formation spontanée d'îlots 3D. Contrairement à l'intuition, il s'avère que la taille latérale des nanostructures est peu sensible à la diffusion de surface des adatomes déposés, même lorsque la longueur de diffusion des adatomes dépasse la longueur d'onde de l'onde stationnaire des faisceaux laser. Pour citer cet article : F. Nita, A. Pimpinelli, C. R. Physique 5 (2004).