Vol 191 - N° 2 - février 2006
P. A1-A14© Elsevier Masson SAS
Page :A1
Page :145-157
Michael E. DeBakey
Page :158-160
Thomas R. Russell
Page :161
Hiram C. Polk
Page :162-164
Josef E. Fischer
Page :165-172
Lior Heller, Scott L. Levin, Charles E. Butler
Page :173-177
Antonio Espinosa-de-los-Monteros, Jorge I. de la Torre, Leonik A. Ahumada, David W. Person, Laurence Z. Rosenberg, Luis O. Vásconez
Page :178-182
Philip N. Redlich, Tracy Milkowski, Dawn Bragg, Kathy Biernat, Andrea Winthrop, Deborah Simpson
Page :183-190
Shannelle Campbell, Julie Ann Sosa, Reuven Rabinovici, Heidi Frankel
Page :191-197
David A. Tessler, Andrew Catanzaro, Vic Velanovich, Suzanne Havstad, Sachin Goel
Page :198-200
Nobutsugu Abe, Masanori Sugiyama, Yutaka Suzuki, Yasuharu Yamaguchi, Osamu Yanagida, Tadahiko Masaki, Toshiyuki Mori, Yutaka Atomi
Page :201-205
Mary F. Dillon, Arnold D.K. Hill, Fergal J. Fleming, Ann O’Doherty, Cecily M. Quinn, Enda W. McDermott, Niall O’Higgins
Page :206-210
Gaspare Galati, Antonio V. Sterpetti, Maria Caputo, Marianna Adduci, Giorgio Lucandri, Stefania Brozzetti, Antonio Bolognese, Antonino Cavallaro
Page :211-215
Pedro F. Escobar, Joseph P. Crowe, Tadaharu Matsunaga, Kefah Mokbel
Page :216-224
Chikara Kunisaki, Hirotoshi Akiyama, Masato Nomura, Goro Matsuda, Yuichi Otsuka, Hidetaka Andrew Ono, Hiroshi Shimada
Page :225-229
Takayuki Kinoshita, Miyuki Takasugi, Eriko Iwamoto, Sadako Akashi-Tanaka, Takashi Fukutomi, Shoji Terui
Page :230-234
Lorenzo Livi, Riccardo Santoni, Fabiola Paiar, Paolo Bastiani, Giovanni Beltrami, Patrizio Caldora, Rodolfo Capanna, Pietro De Biase, Beatrice Detti, Simona Fondelli, Elisa Meldolesi, Maurizio Pertici, Caterina Polli, Gabriele Simontacchi, Gianpaolo Biti
Page :235-237
Elena Risin, Boris Kessel, Itamar Ashkenazi, Noah Lieberman, Ricardo Alfici
Page :238-244
Sudip K. Sarker, Avril Chang, Charles Vincent, Sir Ara W. Darzi
Page :245-249
Yong-Fu Shao, Jia-Mei Yang, Gar-Yang Chau, Yongyut Sirivatanauksorn, Shou-Xian Zhong, Elisabeth Erhardtsen, Supanit Nivatvongs, Po-Huang Lee
Page :250-254
Hideaki Shimada, Yoshihiro Nabeya, Hisahiro Matsubara, Shin-ichi Okazumi, Tooru Shiratori, Takanori Shimizu, Taito Aoki, Kiyohiko Shuto, Yasunori Akutsu, Takenori Ochiai
Page :255-261
Jinsong Liu, Xian Qiao, Jiande D.Z. Chen
Page :262-267
Mary B. Carter, Gina Wesley, Gerald M. Larson
Page :268-271
Jaron McMullin, Rebecca Greenband, Raymond Price, Leigh Neumayer
Page :272-275
Susan Steinemann, Jill Omori
Page :276-280
Mona S. Li, Karen J. Brasel, David Schultz, Mark E. Falimirski, Renae E. Stafford, Lewis B. Somberg, John A. Weigelt
Page :281-283
Steve R. Martinez, Shawn E. Young, Armando E. Giuliano, Anton J. Bilchik
Page :284-287
Fuyo Yoshimi, Yuji Asato, Shigeo Ikeda, Kojun Okamoto, Yasuhiro Komuro, Johji Imura, Masayuki Itabashi
Page :288
Brad W. Warner
Page :289
John G. Hunter
Page :289-290
Rabie E. Abdel-Halim
EM-CONSULTE.COM est déclaré à la CNIL, déclaration n° 1286925.
En application de la loi nº78-17 du 6 janvier 1978 relative à l'informatique, aux fichiers et aux libertés, vous disposez des droits d'opposition (art.26 de la loi), d'accès (art.34 à 38 de la loi), et de rectification (art.36 de la loi) des données vous concernant. Ainsi, vous pouvez exiger que soient rectifiées, complétées, clarifiées, mises à jour ou effacées les informations vous concernant qui sont inexactes, incomplètes, équivoques, périmées ou dont la collecte ou l'utilisation ou la conservation est interdite.
Les informations personnelles concernant les visiteurs de notre site, y compris leur identité, sont confidentielles.
Le responsable du site s'engage sur l'honneur à respecter les conditions légales de confidentialité applicables en France et à ne pas divulguer ces informations à des tiers.
Tout le contenu de ce site: Copyright © 2026 Elsevier, ses concédants de licence et ses contributeurs. Tout les droits sont réservés, y compris ceux relatifs à l'exploration de textes et de données, a la formation en IA et aux technologies similaires. Pour tout contenu en libre accès, les conditions de licence Creative Commons s'appliquent.