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Rationale for sunscreen development - 01/11/17

Doi : 10.1016/j.jaad.2007.05.047 
Serge Forestier
L’Oréal Recherche, Aulnay-sous-Bois, France 

Reprint requests: Michèle Verschoore, MD, L’Oréal, 25-29 quai Aulagnier, 92600, Asnières, France.

Abstract

The risks associated with cumulative or overexposure to ultraviolet (UV) radiation are now well identified. They involve both UVB (290-320 nm) and UVA (320-400 nm) components. UVB radiation is still considered to be the major factor responsible for most harmful effects of solar exposure. But the detrimental role of UVA has been increasingly documented. As a result, the development of a new generation of sunscreens that provide effective protection throughout the whole UV radiation spectrum has become a prime concern and a major issue. These full-spectrum protections must be carefully designed by selecting UV filters with highly reliable stability to ensure optimal safety and efficiency during the entire period of sun exposure. For this purpose, extensive research on the photochemical behavior of various classes of UV filters has been carried out. This has led to the discovery of safe systems that prevent sun-induced degradation of potent UVA filters and to the development of new UVA filters with a high photostability.

Le texte complet de cet article est disponible en PDF.

Abbreviations used : Av, FDA, Oc, UV, UVR


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 Supported by L’Oréal.
 Disclosure: Mr Forestier has been working for L’Oréal Recherche for more than 5 years.


© 2008  American Academy of Dermatology, Inc.. Publié par Elsevier Masson SAS. Tous droits réservés.
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Vol 58 - N° 5S2

P. S133-S138 - mai 2008 Retour au numéro
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