This paper deals with a study about the position of the flat-band potential and the surface chemistry of boron-doped diamond electrodes. Successive and mild anodic treatments have been performed on as-deposited electrodes, in H₂SO₄. From Mott–Schottky plots, flat-band potential (V_FB) evolution has been monitored, exhibiting successively negative then positive shifts during surface oxidation, depending on the anodic coulometric charge. Thanks to surface characterization by X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), this particular evolution of V_FB has been related to the evolution of specific oxygen functionalities at the surface. While the general trends in the literature is to associate the V_FB displacement with the generation of oxygenated terminations, the results presented in this study exhibit the high sensitivity of V_FB to hydroxyl or ether groups.

L'objectif de ce travail est de présenter une corrélation entre la position du potentiel de bandes plates et la chimie de surface d'une électrode de diamant dopé au bore. À cette fin, des traitements anodiques de faible intensité ont été cumulés sur une électrode « brute de fabrication », en milieu H₂SO₄. À partir des représentations Mott–Schottky, l'évolution du potentiel de bandes plates (V_BP) a été suivie à la suite de chaque traitement. Des déplacements successivement négatifs puis positifs de V_BP ont été observés durant l'oxydation de la surface. Grâce à la caractérisation chimique des électrodes par XPS, il a été possible de relier cette évolution particulière de la position du potentiel de bandes plates à la proportion de groupements oxygénés. Si le déplacement du potentiel de bandes plates est généralement associé dans la littérature à l'apport de tout type de terminaisons oxygénées, les résultats de cette étude montrent la sensibilité particulière de V_BP à la présence de groupements hydroxyles ou éthers.