Dual functionalisation on the surface of a mesostructured silica, LUS-1, is investigated here using a novel approach based on the use of so-called “molecular stencil patterning”. This is processed via sequential grafting, the principle of which is based on retention or partial displacement of the templating surfactant. The latter provides the patterning from mutual electrostatic repulsion during the grafting of the first function; here chloropropyldimethylsilyl (CPDMS) or trimethylsilyl (TMS) groups. Then, the second functionalisation step is performed with removal of the remaining surfactant leading to an overall full coverage. The order of the grafting sequence is important and, most of the first function is effectively retained during the second grafting step. Though optimisation is still needed, the concept seems to apply. To cite this article: S. Abry and al, C.R. Chimie 8 (2005).

La double fonctionnalisation de la surface d'une silice mesostructurée, LUS-1, a été étudiée en utilisant une nouvelle technique de « pochoir moléculaire », conduisant à une distribution régulière des fonctions. C'est un procédé de greffage séquentiel, qui met en oeuvre dans la première étape un principe de rétention ou de déplacement partiel du tensioactif, assurant la régularité spatiale des groupements à greffer, ici le chloropropyldiméthylsilyl (CPDMS) ou le triméthylsilyl (TMS). La seconde fonctionnalisation par organosilylation est réalisée avec déplacement du reste du tensioactif. L'ordre de fonctionnalisation est important et la plupart des fonctions greffées lors de la première étape sont retenues lors du second greffage. Bien qu'une optimisation des conditions de greffage soit encore nécessaire, le concept semble applicable. Pour citer cet article : S. Abry et al, C.R. Chimie 8 (2005).