Advanced mask manufacturing - 14/02/08
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Abstract |
In this article the fabrication of advanced masks will be briefly outlined and some specific aspects will be discussed. It will be shown that the increasing design complexity and the complexification of the optical lithographic process generate major issues on all aspects of the fabrication and control of such masks. These issues have not only technical but also economical impacts that will also be outlined. To cite this article: C. Reita, C. R. Physique 7 (2006).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Résumé |
Dans cet article nous esquisserons rapidement la fabrication de masques avancés et certains aspects spécifiques seront discutés. Nous montrerons que la complexité croissante des circuits et la complexification des procédés de lithographie optique génèrent des problèmes majeurs sur tous les aspects de la fabrication et du contrôle de tels masques. Ces problèmes ont non seulement des impacts techniques mais aussi économiques qui seront aussi indiqués. Pour citer cet article : C. Reita, C. R. Physique 7 (2006).
Le texte complet de cet article est disponible en PDF.Keywords : Mask, Mask writing, Phase shift mask, Mask inspection, Mask repair
Mots-clés : Masque, Écriture de masque, Masque à décalage de phase, Inspection de masque, Réparation de masque
Plan
Vol 7 - N° 8
P. 896-909 - octobre 2006 Retour au numéro
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