Vol 67 - N° 4 - avril 2008
P. 581-778© Elsevier Masson SAS
Pagina :A4
Pagina :A13
Pagina :A18
Pagina :A20
Pagina :A22
Pagina :A27
Pagina :A37
Pagina :A45
Pagina :581-589
Prepared by: ASGE TECHNOLOGY COMMITTEE, Louis Michel Wong Kee Song, Douglas G. Adler, Jason D. Conway, David L. Diehl, Francis A. Farraye, Sergey V. Kantsevoy, Richard Kwon, Petar Mamula, Betsy Rodriguez, Raj J. Shah, William M. Tierney
Pagina :590-594
Prepared by: ASGE TECHNOLOGY COMMITTEE, Jason D. Conway, Douglas G. Adler, David L. Diehl, Francis A. Farraye, Sergey V. Kantsevoy, Richard Kwon, Petar Mamula, Betsy Rodriguez, Raj J. Shah, Louis Michel Wong Kee Song, William M. Tierney
Pagina :595-601
Drew B. Schembre, Jasmine L. Huang, Otto S. Lin, Nico Cantone, Donald E. Low
Pagina :602-603
Jeffrey H. Peters
Pagina :604-609
Femke P. Peters, Klasina P.M. Brakenhoff, Wouter L. Curvers, Wilda D. Rosmolen, Paul Fockens, Fiebo J.W. ten Kate, Kausilia K. Krishnadath, Jacques J.G.H.M. Bergman
Pagina :610-619
John DeWitt, Kathleen McGreevy, Stuart Sherman, Julia LeBlanc
Pagina :620-628
Yogesh M. Shastri, Nicolas Hoepffner, Angelika Tessmer, Hans Ackermann, Oliver Schroeder, Jürgen Stein
Pagina :629-633
Sri Prakash Misra, Manisha Dwivedi
Pagina :634-635
Simon K. Lo
Pagina :636-642
Hyoung-Chul Oh, Dong Wan Seo, Tae Yoon Lee, Ji Young Kim, Sang Soo Lee, Sung Koo Lee, Myung-Hwan Kim
Pagina :643-648
Jason P. Etzel, Sue C. Eng, Cynthia W. Ko, Scott D. Lee, Michael D. Saunders, Bruce Y. Tung, Michael B. Kimmey, Kris V. Kowdley
Pagina :649-650
Alan B.R. Thomson
Pagina :651-659
Suzana Muller, Silvia M. Borowics, Elaine A.F. Fortis, Luciana C. Stefani, Gabriela Soares, Ismael Maguilnik, Helenice P. Breyer, Maria Paz L. Hidalgo, Wolnei Caumo
Pagina :660-668
Yuk Tong Lee, Francis K.L. Chan, W.K. Leung, Henry L.Y. Chan, Justin C.Y. Wu, Man Yee Yung, Enders K.W. Ng, James Y.W. Lau, Joseph J.Y. Sung
Pagina :669-672
Thomas J. Savides
Pagina :673-679
Christopher Lawrence, Douglas A. Howell, Andreas M. Stefan, Donald E. Conklin, Frank J. Lukens, Ronald F. Martin, Andrew Landes, Becky Benz
Pagina :680-682
Jacques Devière, Fadi Antaki
Pagina :683-689
Suck-Ho Lee, Il-Kwun Chung, Sun-Joo Kim, Jin-Oh Kim, Bong-Min Ko, Young Hwangbo, Won Ho Kim, Dong Hun Park, Sang Kil Lee, Cheol Hee Park, Il-Hyun Baek, Dong Il Park, Seun-Ja Park, Jeong-Seon Ji, Byung-Ik Jang, Yoon-Tae Jeen, Jeong Eun Shin, Jeong-Sik Byeon, Chang-Soo Eun, Dong Soo Han
Pagina :690-697
Eric M. Pauli, Matthew T. Moyer, Randy S. Haluck, Abraham Mathew
Pagina :698-701
Todd H. Baron, Brenna C. Bounds, Robert Sedlack, Allan P. Weston, G.S. Raju, George Triadafilopoulos
Pagina :702-703
Alberto Herreros de Tejada
Pagina :704-708
Shou-jiang Tang, Luis F. Lara
Pagina :708-711
Jochen Wedemeyer, Andrea Schneider, Michael P. Manns, Steffan Jackobs
Pagina :712-717
Felix W. Leung, Surinder K. Mann, Rodelei Salera, Lee Toomsen, Hazel Cabrera, Dannie Prather, Rebeck Gutierrez, Joseph W. Leung
Pagina :718-722
Felix W. Leung, H. Steven Aharonian, Paul H. Guth, Susan K. Chu, Bichthuy D. Nguyen, Peter Simpson
Pagina :723-724
Toshiyuki Ooishi, Jun Nishikawa, Masaaki Satake, Yuki Fukagawa, Takeshi Okamoto, Isao Sakaida
Pagina :724-725
Chia-Hsien Wu, Ming-Jen Chen, Wen-Hsiung Chang, Yu-Jan Chan, Horng-Yuan Wang, Shou-Chuan Shih
Pagina :725-726
Cass R. Smith, Praveen S. Goday
Pagina :726-727
Verena S. Pollheimer, Gerald C. Gurakuqi, Marion J. Pollheimer, Christine Beham-Schmid, Cord Langner
Pagina :728-729
Mark Topazian, Todd H. Baron, Jeff L. Fidler, Suresh Chari
Pagina :729-731
Tae Hoon Lee, Suck-Ho Lee, Jeong Hoon Park, Do Hyun Park, Ji-Young Park, Sang-Heum Park, Il-Kwun Chung, Sun-Joo Kim
Pagina :732-737
Mathieu Duché, Dalila Habès, Philippe Roulleau, Vincent Haas, Emmanuel Jacquemin, Olivier Bernard
Pagina :738-744
Daniel von Renteln, Arthur Schmidt, Bettina Riecken, Karel Caca
Pagina :745-747
Ryu Ishihara, Sachiko Yamamoto, Shunsuke Yamamoto, Hiroyasu Iishi, Yoji Takeuchi, Motohiko Kato, Eriko Masuda, Koichi Tatsumi, Koji Higashino, Noriya Uedo, Masaharu Tatsuta
Pagina :748
Ron Shaoul, Tova Rainis
Pagina :748-751
Jonathan M. Buscaglia, Kalyan Ray Parashette, Samuel A. Giday, Patrick I. Okolo
Pagina :751-755
Gevork Mnatzakanian, Andrew Smaggus, Charlie S. Wang, Andrew A. Common, Khursheed N. Jeejeebhoy
Pagina :755-758
James S. Hawk, Evan S. Dellon, John B. Martinie, Ian S. Grimm
Pagina :758-759
Shyam Varadarajulu, Ernesto R. Drelichman
Pagina :759-762
Yeon Seok Seo, Yong Dae Kwon, Sanghoon Park, Bora Keum, Beom Jin Park, Yong Sik Kim, Yoon Tae Jeen, Hoon Jai Chun, Chang Duck Kim, Ho Sang Ryu, Soon Ho Um
Pagina :763-765
Job H.C. Peters, Emanuele Rondonotti, Marcel C. Weijmer, Chris J.J. Mulder, Maarten A.J.M. Jacobs
Pagina :765-767
Robert P. Willert, Andre K. Chong
Pagina :767-768
Rebekah G. Gross, Bruce Reiter, Mark A. Korsten
Pagina :769-771
Seong Yun Kim, Seong Ho Park, Seung Soo Lee, Seong Tae Oh, Kee Don Choi, Ah Young Kim
Pagina :771-773
Sushil K. Ahlawat, Aline Charabaty, Stanley Benjamin
Pagina :774
Shyam Menon
Pagina :774
Rahul A. Shimpi, Frank G. Gress
Pagina :774-775
Chandika A.H. Liyanage, Shunichi Takahata
Pagina :775-776
Sri Prakash Misra, Manisha Dwivedi
Pagina :776
David R. Musher
Pagina :776-777
Roy Soetikno, Tonya Kaltenbach, Shai Friedland
Pagina :777
Jacobo Dib, Andrés Ortiz
Pagina :777-778
Nick Powell, Bu Hayee, David Rowbotham, Vish Saxena, Alistair McNair
Pagina :778
EM-CONSULTE.COM è registrato presso la CNIL, dichiarazione n. 1286925.
Ai sensi della legge n. 78-17 del 6 gennaio 1978 sull'informatica, sui file e sulle libertà, Lei puo' esercitare i diritti di opposizione (art.26 della legge), di accesso (art.34 a 38 Legge), e di rettifica (art.36 della legge) per i dati che La riguardano. Lei puo' cosi chiedere che siano rettificati, compeltati, chiariti, aggiornati o cancellati i suoi dati personali inesati, incompleti, equivoci, obsoleti o la cui raccolta o di uso o di conservazione sono vietati.
Le informazioni relative ai visitatori del nostro sito, compresa la loro identità, sono confidenziali.
Il responsabile del sito si impegna sull'onore a rispettare le condizioni legali di confidenzialità applicabili in Francia e a non divulgare tali informazioni a terzi.
Tutto il contenuto di questo sito: Copyright © 2026 Elsevier, i suoi licenziatari e contributori. Tutti i diritti sono riservati. Inclusi diritti per estrazione di testo e di dati, addestramento dell’intelligenza artificiale, e tecnologie simili. Per tutto il contenuto ‘open access’ sono applicati i termini della licenza Creative Commons.