Vol 103 - N° 4 - avril 2026
P. A1-A12© Elsevier Masson SAS
Page :A1
Page :A5
Page :A8
Page :A9
Page :A10
Page :A12
Page :653
Douglas G. Adler
Page :654-660
Saurabh Chawla, Gerard Isenberg, Rishi D. Naik, Sunil Amin, Ahmed A. Bolkhir, Prabhleen Chahal, Christopher G. Chapman, Edwin Dellert, Stephen Hasak, Kevin Jansen, Khaldoon T. Khirfan, Gene K. Ma, Joanne M. Rach, Sachin Srinivasan, Jean M. Verdeyen, Kevin A. Waschke, Jessica L. Widmer, Keith L. Obstein
Page :661-671
Anna L. Silverman, Ryan W. Stidham, Sravanthi Parasa, Prateek Sharma, Uma Mahadevan
Page :672
Ian Io Lei, Pablo Cortegoso Valdivia, Noemi Gualandi, Kiara Mc Donnell, Marco Pennazio, Ramesh Arasaradnam, Anastasios Koulaouzidis
Page :687-688
Andrew Ofosu
Page :689
Roberto de Sire, Marco Spadaccini, Diletta De Deo, Davide Massimi, Ludovico Alfarone, Antonio Capogreco, Antonio Facciorusso, Gianluca Andrisani, Sandro Sferrazza, Jeremie Jacques, Asma Alkandari, Pradeep Bhandari, Yuichi Mori, Cesare Hassan, Roberta Maselli, Alessandro Repici
Page :698-699
Neal Shahidi
Page :700
Aman Yadav, Sunil Gupta, Shwan Karim, Xuan Banh, Jennifer Borowsky, Caroline Cooper, Ian Hughes, Luke F. Hourigan, Alexander Huelsen
Page :709-711
Lev T. Perelman
Page :712-722
Liwei Wang, Lin Cheng, Yan Jiang, Sifan Qin, Yun Liu, Yuxiu Liu, Shirong Fang
Page :723-724
David L. Diehl
Page :725-732
Soo-Yoon Sung, Hyun Ho Choi, Seung Ho Sin, Hyung-Keun Kim, Sang Woo Kim, Sung Soo Kim
Page :733-735
Sho Suzuki
Page :736-744
Yosuke Ohashi, Hiroshi Sugiyama, Takayasu Ideta, Takaaki Hino, Shino Mizutani, Hirokazu Adachi, Yasuhiro Oshima, Masahito Shimizu
Page :745-746
Gilmara Coelho Meine
Page :747
Takeshi Yamamura, Masanao Nakamura, Mio Hiramatsu, Genta Uchida, Keisaku Yamada, Takeshi Kuno, Keiko Maeda, Tsunaki Sawada, Eri Ishikawa, Takashi Hirose, Takuya Ishikawa, Kazuhiro Furukawa, Takashi Honda, Hiroki Kawashima
Page :760-761
Mingyan Cai
Page :762
Joseph C. Anderson, William M. Hisey, Christina M. Robinson, Paul J. Limburg, Bonny L. Kneedler, Lynn F. Butterly
Page :771
Sneh Sonaiya, Raj Patel, Dushyant Singh Dahiya, Shahryar Khan, Charmy Parikh, Mark Stasiewicz, Pranav D. Patel, Kyaw Min Tun, Bradley Confer, Harshit S. Khara, Sumant Inamdar, Vignan Manne, Babu P. Mohan, Douglas G. Adler
Page :780-785
Thomas R. McCarty, Rashmi Advani, Christopher E. McGowan, Michael B. Ujiki, Sergio Sánchez-Luna, Daniel B. Maselli, Zachary M. Callahan, Christopher C. Thompson, Pichamol Jirapinyo
Page :786-790
Rishad Khan, Remy Hosari, Mouen A. Khashab, Vinay Chandrasekhara, Andrew C. Storm, Samuel Han, Barham Abu Dayyeh, Romina Roshanshad, Farimah Fayyaz, Karel Caca, Ryan Law, Andreas Wannhoff
Page :791-793
Manol Jovani
Page :794-798
Nikhita J. Perry, Sai Bhatte, Joseph R. Triggs, Galen Leung, Nuzhat Ahmad, Michael Kochman, Monica Saumoy, Gregory G. Ginsberg
Page :799-803
Yusuke Takasaki, Hiroyuki Isayama, Yusuke Yamaguchi, Haruka Hagiwara, Fumi Kurata, Ippei Ikoma, Yasuhisa Jimbo, Muneo Ikemura, Tomoya Takahashi, Sho Takahashi, Ko Tomishima, Shigeto Ishii, Toshio Fujisawa
Page :804-806
Raj J. Shah
Page :807-808
Tian-Yu Zhang, Dong-Li He, Yun-Shi Zhong
Page :808-809
Jiayao Zheng, Yanqin Xu, Shijie Yang, Wanyin Deng
Page :810-811
Jia Xu, Yang Liao, Haitao Zhang, Weixing Yang, Zhongqiong Wang, Muhan Lü, Xiaowei Tang
Page :811-812
Corey Mealer, Manjakkollai P. Veerabagu
Page :813-814
Jiyu Zhang, Saif Ullah, Yongping Guo, Ning Su, Dan Liu, Bingrong Liu, Deliang Li
Page :815-816
Přemysl Falt, Ondřej Urban
Page :816-818
Samia Nesar, Ahmed Miremadi, Nicola Fearnhead, Alexandra Colquhoun, Edmund M. Godfrey
Page :818-819
Cameron Amini, Barton Lane, Olga Ioffe, Rhaya Murray, Farhan Ali, Peter Darwin
Page :819-821
Ruixin Zhang, Qiuyu Wang, Rui Ji
Page :822
Zekai Yu
Page :822-823
Patrick W. Chang, James L. Buxbaum
Page :823-824
Jannis Kountouras, Christos Zavos, Stergios A. Polyzos, Evangelos Kazakos, Michael Doulberis, Apostolis Papaefthymiou, Ioannis S. Papanikolaou, Elizabeth Vardaka, Christos Liatsos
Page :825
Zimeng Wang, Song Su, Ningli Chai
Page :825-826
Ritesh Bhandari, Junaid Beig, Puneet Chhabra
Page :826-827
S. Dhanya Dedeepya, Vaishali Goel, Nivedita Nikhil Desai
Page :827-828
Takashi Kobayashi, Hisahiro Uemura, Atsuhiro Masuda, Arata Sakai, Norimitsu Uza, Yuzo Kodama
Page :828
Zhi-Min Wang, Xiang-Hu Wang, Lian-Ping He
Page :828-829
Yu-tian Cao, Zhe Cheng, Xi-qiao Zhou
Page :829-830
Celine B.E. Busch, Annieke C.G. van Baar
Page :830-831
Hanning Song, Xuhong Jiang
Page :831
Thomas K.L. Lui, Wai K. Leung
Page :831-832
Jia Miao, Wen Li, Xiaoting Ni
Page :832-833
Sneh Sonaiya, Douglas G. Adler
Page :833-834
Zhifu Yu, Xue Bi, Xiaoyu Yang
Page :834-835
Jannis Kountouras, Christos Zavos, Stergios A. Polyzos, Dimitrios Tzilves, Ioannis S. Papanikolaou
Page :835
Masau Sekiguchi, Marcus Westerberg, Christian Löwbeer, Anna Forsberg
Page :835-836
Xutao Jiang, Guixin Zhang
Page :836-837
Alexander Weich, Alexander Meining
Page :837-838
Wenjie Zhang
Page :838-839
Nik Dekkers, Mar Rodríguez-Girondo, Jurjen J. Boonstra
EM-CONSULTE.COM est déclaré à la CNIL, déclaration n° 1286925.
En application de la loi nº78-17 du 6 janvier 1978 relative à l'informatique, aux fichiers et aux libertés, vous disposez des droits d'opposition (art.26 de la loi), d'accès (art.34 à 38 de la loi), et de rectification (art.36 de la loi) des données vous concernant. Ainsi, vous pouvez exiger que soient rectifiées, complétées, clarifiées, mises à jour ou effacées les informations vous concernant qui sont inexactes, incomplètes, équivoques, périmées ou dont la collecte ou l'utilisation ou la conservation est interdite.
Les informations personnelles concernant les visiteurs de notre site, y compris leur identité, sont confidentielles.
Le responsable du site s'engage sur l'honneur à respecter les conditions légales de confidentialité applicables en France et à ne pas divulguer ces informations à des tiers.
Tout le contenu de ce site: Copyright © 2026 Elsevier, ses concédants de licence et ses contributeurs. Tout les droits sont réservés, y compris ceux relatifs à l'exploration de textes et de données, a la formation en IA et aux technologies similaires. Pour tout contenu en libre accès, les conditions de licence Creative Commons s'appliquent.