Refractory lipodermatosclerosis treated with intralesional platelet-rich plasma - 14/10/11

Doi : 10.1016/j.jaad.2011.06.040

Ki-Heon Jeong, MD, Min-Kyung Shin, MD ^⁎ , Nack-In Kim, MD
Department of Dermatology, College of Medicine, Kyunghee University, Seoul, Korea

Correspondence to: Min-Kyung Shin, MD, Department of Dermatology, College of Medicine, Kyunghee University, #1 Hoeki-Dong, Dongdaemun-Ku, Seoul 130-702, Korea

	Funding sources: None.
	Conflicts of interest: None declared.

Esportazione

Vol 65 - N° 5

P. e157-e158 - novembre 2011 Ritorno al numero

Articolo precedente

Cutaneous pseudolymphoma localized to black tattoo
Piero Campolmi, Andrea Bassi, Paolo Bonan, Giovanni Cannarozzo, Massimo Gola, Duccio Rossi Degl’Innocenti, Torello Lotti, Daniela Massi

| Articolo seguente

Iotaderma #214
Robert I. Rudolph

Benvenuto su EM|consulte, il riferimento dei professionisti della salute.
L'accesso al testo integrale di questo articolo richiede un abbonamento.

Già abbonato a @@106933@@ rivista ?

connettersi o creare un account

Dichiarazione CNIL

EM-CONSULTE.COM è registrato presso la CNIL, dichiarazione n. 1286925.

Ai sensi della legge n. 78-17 del 6 gennaio 1978 sull'informatica, sui file e sulle libertà, Lei puo' esercitare i diritti di opposizione (art.26 della legge), di accesso (art.34 a 38 Legge), e di rettifica (art.36 della legge) per i dati che La riguardano. Lei puo' cosi chiedere che siano rettificati, compeltati, chiariti, aggiornati o cancellati i suoi dati personali inesati, incompleti, equivoci, obsoleti o la cui raccolta o di uso o di conservazione sono vietati.
Le informazioni relative ai visitatori del nostro sito, compresa la loro identità, sono confidenziali.
Il responsabile del sito si impegna sull'onore a rispettare le condizioni legali di confidenzialità applicabili in Francia e a non divulgare tali informazioni a terzi.

Refractory lipodermatosclerosis treated with intralesional platelet-rich plasma - 14/10/11

Citazioni Export

File

Contenuto

Il mio account

Aide & support

Dichiarazione CNIL