L’étude du Technostress (stress suscité par l’usage des technologies) et de la charge mentale s’est accentué après l’introduction et l’utilisation massive des technologies numériques en contexte professionnel. Bien qu’il existe aujourd’hui une vaste littérature sur les deux concepts, rares sont les travaux qui ont abordé les deux phénomènes ensemble. Cet article de recherche se concentre sur l’examen bibliographique des deux concepts et présente les différences et les similitudes qui existent entre les deux phénomènes dans le contexte professionnel. Finalement, un modèle de recherche est présenté qui propose une relation entre le Technostress et la charge mentale.

The study of Technostress (stress caused using technology) and mental workload has increased after the introduction and massive use of digital technologies in a professional context. Although there is now a vast literature on the two concepts, few works have addressed the two phenomena together. This research article focuses on the bibliographic review of the two concepts and presents the differences and similarities that exist between the two phenomena in the professional context. Finally, a research model is presented that proposes a relationship between Technostress and mental workload.