Vol 59 - N° 6 - décembre 2008
P. 909-1126© Elsevier Masson SAS
Page :A2
Page :A5
Page :A27
Page :A34
Page :921
Page :922
Page :1094
Page :909-920
Nina C. Botto, Erin M. Warshaw
Page :923-933
Ross M. Levy, Kelley Pagliai Redbord, C. William Hanke
Page :934-942
Steven Q. Wang, Joseph W. Stanfield, Uli Osterwalder
Page :943-948
Chao-Chun Yang, I-Hsin Shih, Wan-Lung Lin, Yi-Sheng Yu, Hsien-Ching Chiu, Po-Han Huang, Yu-Wen Cheng, Julia Yu-Yun Lee, WenChieh Chen
Page :949-952
Victoria Nguyen, Richard H. Huggins, Terakeith Lertsburapa, Kimberly Bauer, Alfred Rademaker, Pedram Gerami, Joan Guitart
Page :953-957
Anjali V. Morales, Ranjana Advani, Steven M. Horwitz, Nadeem Riaz, Sunil Reddy, Richard T. Hoppe, Youn H. Kim
Page :958-964
Murat Durdu, Mete Baba, Deniz Seçkin
Page :965-966
Thomas D. Horn
Page :967-974
Caroline Le Poole, Cecele J. Denman, Jack L. Arbiser
Page :975-980
Andreas Storm, Eva Benfeldt, Stig Ejdrup Andersen, Jørgen Serup
Page :980
Page :981-985
Murat Icen, Cynthia S. Crowson, Marian T. McEvoy, Sherine E. Gabriel, Hilal Maradit Kremers
Page :986-989
Brittany G. Craiglow, Jack S. Resneck, Anne W. Lucky, Robert Sidbury, Albert C. Yan, Steven D. Resnick, Richard J. Antaya
Page :990-994
Christophe Perrin, Robert Baran
Page :995-999
Deborah Gerson, Vathany Sriganeshan, John B. Alexis
Page :1000-1004
Denisa Kacerovska, Michal Michal, Boris Kreuzberg, Petr Mukensnabl, Dmitry V. Kazakov
Page :1005-1008
Approved by the American Academy of Dermatology Board of Directors, August 2008
Page :1009-1016
Steven R. Feldman, Elizabeth J. Horn, Rajesh Balkrishnan, Mohammad K. Basra, Andrew Y. Finlay, Dan McCoy, Alan Menter, Peter C.M. van de Kerkhof, International Psoriasis Council
Page :1017-1030
Elisabeth B.M. Kroft, Nadine J.G. Berkhof, Peter C.M. van de Kerkhof, Rianne M.J.P. Gerritsen, Elke M.G.J. de Jong
Page :1030
Page :1031-1042
Béatrice Gavignet, Renaud Piarroux, François Aubin, Laurence Millon, Philippe Humbert
Page :1043-1049
Michael J. Messina, Lindsey A. Brodell, Robert T. Brodell, Eliot N. Mostow
Page :1049
Page :1050-1063
David R. Berk, Susan J. Bayliss
Page :1064-1069
Timothy M. Johnson
Page :1070-1074
Asha R. Patel, Daniele Avila, Harry L. Malech, Steven Z. Pavletic, Larry Yao, Edward W. Cowen
Page :1075-1076
Warren R. Heymann
Page :1077-1079
Rudolf Happle
Page :1080
Robert I. Rudolph
Page :1080
Robert I. Rudolph
Page :1081-1085
Myles Cockburn, Susan M. Swetter, David Peng, Theresa H.M. Keegan, Dennis Deapen, Christina A. Clarke
Page :1086-1088
Robert P. Dellavalle, Marcus A. Banks, Jeffrey I. Ellis
Page :1088
Page :1089-1090
Sujoy Khan, Sue Sims, Don Raine, William A.C. Sewell
Page :1090-1091
Matthias Möhrenschlager, Johannnes Ring
Page :1091-1092
Eva Vilarrasa, Eulalia Baselga, Catalina Rincon, Agustin Alomar
Page :1092
Avi Shimony, Dorit Tidhar
Page :1092-1093
Shailendra Kapoor
Page :1095-1096
Page :1097-1108
Page :1109-1126
EM-CONSULTE.COM est déclaré à la CNIL, déclaration n° 1286925.
En application de la loi nº78-17 du 6 janvier 1978 relative à l'informatique, aux fichiers et aux libertés, vous disposez des droits d'opposition (art.26 de la loi), d'accès (art.34 à 38 de la loi), et de rectification (art.36 de la loi) des données vous concernant. Ainsi, vous pouvez exiger que soient rectifiées, complétées, clarifiées, mises à jour ou effacées les informations vous concernant qui sont inexactes, incomplètes, équivoques, périmées ou dont la collecte ou l'utilisation ou la conservation est interdite.
Les informations personnelles concernant les visiteurs de notre site, y compris leur identité, sont confidentielles.
Le responsable du site s'engage sur l'honneur à respecter les conditions légales de confidentialité applicables en France et à ne pas divulguer ces informations à des tiers.
Tout le contenu de ce site: Copyright © 2026 Elsevier, ses concédants de licence et ses contributeurs. Tout les droits sont réservés, y compris ceux relatifs à l'exploration de textes et de données, a la formation en IA et aux technologies similaires. Pour tout contenu en libre accès, les conditions de licence Creative Commons s'appliquent.